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台湾国立清华大学Ruey-An Doong课题组--面积生长高质量石墨烯/ MoS2垂直通过化学气相沉积和成核控制实现异质结构
      这里,通过溶剂热处理工艺,用零位石墨烯量子点(GQD)对V2O5纳米片进行纳米功能修饰,将其作为阳极材料,显示出增强的电化学储能性质。嵌入的GQD赋予了V2O5(VNS-GQD)结构和组成方面的优势,包括更大的层间距离,快速的电化学动力学,以及额外的稳定性来缓冲体积变化。而且,GQD和VNS之间强的耦合效应,超大的界面面积和增强的电导率促进了插层赝电容行为。VNS-GQD在1 A g-1电流密度下,其比电容达572 F g-1,经10000次充放电循环后,仍能保留初始电容的92%。还组装了非对称超级电容器,其工作电压窗口为1.5 V,在2.25 kW kg-1功率密度下,实现31.25 W h kg-1的能量密度。这项工作是通过将GQD嵌入到二维过渡金属氧化物夹层中,这也为构建其他纳米夹层复合材料提供了新途径,从而应用于超高性能的电化学储能领域。
 
Figure 1. 水热法合成VNS-GQD的示意图,组装非对称超级电容器的示意图,通过滴涂法,分别将VNS-GQD和中孔碳球(MCS)涂覆在碳布上,依次作为阳极和阴极材料。
 

Figure 2. GQD的(a-c)TEM图,HR-TEM图,粒径分布; VNS的(d-f)TEM,HR-TEM图,晶格条纹,(g)VNS-GQD的TEM图。(h)三种样品的XRD图。MCS的(i-I)SEM图,TEM图,XRD图和拉曼光谱。
 

Figure 3. V2O5和GQD纳米复合材料的(a)TGA和(b)BET表面积。(c)三种样品的XPS总谱,以及VNS-GQD的高分辨(d-f)C 1s, V 2p和O 1s XPS谱。
 

Figure 4. VNS基纳米材料的(a)EIS奈奎斯特图,(b)循环伏安图(CV)和(c)比电容与扫描速率的关系。(d)恒电流充放电(GCD)曲线,以及(e)VNS-GQD-10的循环稳定性。(f)VNS-GQD-10在不同扫描速率和电流密度时的比电容。(g)重量比电容和面电容。(h)在5 mV s-1扫速时的CV曲线,以及(i)在活性物质不同负载量时的奈奎斯特图。
 
       该研究工作由台湾国立清华大学Ruey-An Doong课题组于2020年发表在Nanoscale期刊上。原文:Boosting the energy storage performance of V2O5 nanosheets by intercalating conductive graphene quantum dots。

摘自《石墨烯杂志》公众号:

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