纳米压印技术简介
Nanoimprinting Technology (NIL) 纳米压印技术是制备纳米尺度图案的一种方法。这种方法工艺简单，成本低廉，可大规模生产，且生产出来的图案具有很高的分辨率。在这里，纳米尺度的图案是由压印模具压印光刻胶再加上后续的工艺步骤制备形成的。光刻胶一般由单分子或聚合物构成，且固化方式为热固化或紫外固化。压印模具与光刻胶之间的粘附力需要被精确控制以获得最合适的压印效果。
NIL技术广泛应用于电子学、光子学、光电子学和生物等领域。在电子学领域，NIL技术已经被用来制备场效应管（MOSFET），有机薄膜晶体管（O-TFT）和单电子存储器等；在光子学和光电子学领域，NIL技术在亚波长的共振光栅过滤器，偏振镜，波片，抗反射结构，光子集成电路以及等离子器件等方面都有深入的研究和应用。另外，Sub-10 nm的微流控通道被用于DNA的拉伸试验就是由NIL技术制备而成的。近来，NIL技术被用来缩小生物分子排序器件的尺寸使得排序的量级更小，更有效。
NIL技术最大的优点是其工艺简单。与芯片制造相关联的一个最大成本是用于印刷电路图案的光刻工具。光学光刻技术需要高功率紫外线激光和大量的精密透镜来实现纳米级的分辨率。而NIL技术不需要复杂的光学系统和高功率的激光源，也不需要根据给定分辨率和波长的灵敏度来设计合适的光刻胶。因此，该技术的简化要求造就了其成本的低廉。
NIL技术是一种固有的三维图案化技术。压印模具可以由多层垂直堆叠的方法来制备。两层结构的复制只需要一个压印步骤，这使得芯片制造商可以降低芯片制造成本，提高产品的生产量。如上所述，纳米压印材料不需要调成为对给定波长的光具有高的分辨率和灵敏度。因此，更大范围的不同性能的材料都可以应用在纳米压印技术中。这种增加了的材料可变性，给化学家们提供的更自由的空间去设计新功能材料，而不是牺牲抗腐蚀性的聚合物材料。一种功能材料也许可以直接通过纳米压印在芯片上形成图案而不需要放在下面的转移层材料。成功的使用一种新型功能材料可以有效的降低生产成本，并通过减少许多困难的制造工艺来提高生产能力。
一. 纳米压印胶：
1、产品简介
UV-NIL photoresist为自主研发，是自主研发环境友好型紫外纳米压印胶。可根据客户需要，订制指定厚度（3500rpm）的纳米压印胶（厚度偏差±10nm）， 厚度100-1000nm。
2、产品技术特点
1、低粘度紫外纳米压印用光刻胶，≤50mPa·s；
2、压印结构精度高，≤15nm；
3、可实现高深宽比结构材料压印(3:1);
4、适用于蓝宝石、石英、硅、镍、PDMS、以及聚合物复合压印模板材料;
5、适用于蓝宝石、石英、硅、镍、PDMS、GaAs、InP、GaN、Ti、Au、PE等多种基底材料；
6、有机无机混合材料，提高了压印胶的抗刻蚀性；
7、可在常规条件下实现快速固化，无须真空无氧环境；
8、低压压印工艺过程，调节工艺条件残余层厚度可控制在10nm以下。
二、模具防粘处理试剂：
5g/10g包装
三. 纳米压印模板
1.常规模板制作
根据客户要求定制模板（Si/Quartz），衬底大小可选，图形最大可至6inch，周期最低50nm，可灵活设计多种模板。所有模板均可进行抗粘附处理。
这种纳米柱模具可以应用在光子晶体和纳米模具领域，以及很多潜在的领域：
磁性纳米结构
LED光抽取层，光伏图形化
晶体生长模板
纳米压印工艺开发
光子/等离子体结构
生物纳米技术
2.软模板/复合模板加工
拥有软模/复合模板复制技术，可根据客户要求订做相应规格的PDMS，PDMS复合（PET、PC）压印模板。
四、软膜制作材料
硬模板制作PDMS软模板材料， 产品分为：UV型快速制作型和热固化型。
