柔性无机电子器件由于其优异的电子性能和热稳定性,在能量转换、航空航天和可穿戴设备等领域表现出独特的优势。高性能柔性无机电子器件的产业化需要在可接受的温度下,采用通用的方法在聚合物衬底上制备无机晶体。在此,我们首先开发了涡流化学气相沉积(VFCVD)技术,于450°C低温下,用于在柔性石墨烯-聚酰亚胺(G-PI)导电膜上合成高质量的垂直ReO
2阵列。Euler方程表明,在相同的条件下,ReO
2的蒸汽压几乎比VFCVD的自由空间的蒸汽压高100倍。推导出的ReS
2/ReO
2金属-半导体异质结阵列具有突出的析氢反应(HER)活性,作为能量转换装置具有高的长期稳定性。这项工作为利用VFCVD在聚合物衬底上低温生长无机纳米材料,实现高性能柔性能源器件的工业化提供了机会。
Figure 1. (a)G-PI上的垂直ReO
2阵列的SEM图;(b)垂直ReS
2 /ReO
2异质结阵列的SEM图;(c)G-PI上的ReS
2花的SEM图;(d)β-ReO
2晶体的X射线衍射图谱;(e)几种纳米结构材料的拉曼光谱;(f)生长的ReO
2纳米颗粒、ReS
2花和垂直的ReS
2/ReO
2异质结阵列的Re元素和S元素的XPS光谱。
Figure 2. TEM图、HRTEM图和SAED分析:(a-d)β-相ReO
2支柱,(e-h)在ReS
2/ReO
2异质结外部外延的ReS
2纳米薄片,(i-l)分层的ReS
2/ReO
2异质结界面的。(m-n)单个ReO
2纳米柱和单个ReS
2/ReO
2异质结的ADF-STEM和元素映射图像。注意:m和n中所有ADF-HAADF图像和元素映射图像的比例尺均为100 nm
Figure 3. 在0.5 M H
2SO
4中的电催化HER活性。(a)ReS
2/ReO
2异质结的HER;(b)通过DFT计算,接触前后ReS
2/ReO
2异质结的能带排列和功函数;(c)扫描速率为2 mV/s时ReO
2、ReS
2和ReS
2/ReO
2的LSV曲线;(d)扫描速率为2 mV/s时具有不同生长时间的ReS
2/ReO
2的LSV曲线;(e)比较10 mA/cm
2下的过电势和tafel斜率;(f)对应于(b)中样品的Tafel图;(g)用于估计ECSA的C
dl;(h)各种样品的电化学阻抗谱,插图是等效电路。
相关研究成果于2020年由西南大学化学与化学工程学院Yimin Jiang课题组发表在Applied Catalysis B: Environmental(DOI: 10.1016/j.apcatb.2020.118924)。原文:Low-temperature growth of Three dimensional ReS
2/ReO
2 metalsemiconductor heterojunctions on Graphene/polyimide film for enhanced hydrogen evolution reaction。
摘自《石墨烯杂志》公众号: