石墨烯引起了人们对下一代电子产品的极大兴趣。然而,自然带隙的缺乏限制了基于石墨烯的晶体管的电流开/关比。二维异质结构的垂直集成为解决这一挑战提供了一种有前景的方法,可实现具有大开/关比的高电流密度垂直场效应晶体管(VFET)。这里,提出了一种具有垂直堆叠石墨烯/MoS
2异质结构的摩擦电势供电VFET和与栅极电介质耦合的滑模摩擦纳米发电机(TENG)。 Tribotronic VFET 具有垂直方向超短沟道长度,表现出出色的电流驱动能力,具有超高导通电流密度950 A cm
-2的和良好的电流开/关比~630,它还展示了整流比超过 10
2 可重构的二极管特性。温度依赖性研究首次应用于摩擦电子器件,表明摩擦电势对 150 meV 的肖特基势垒高度进行了有效调制。绿色 LED 像素由摩擦电子 VFET 驱动,作为触觉交互式发光设备的演示。该研究展示了有效的摩擦电势可调谐晶体管和二极管行为,为各种二维层状材料在垂直方向上实现功能器件集成,并为下一代电子器件实现三维一体化提供了一种有前途的策略。
Fig 1. 示意图和材料表征。 a)基于范德华异质结构的摩擦电子垂直场效应晶体管(VFET)的示意图。放大图是相应的滑模 TENG 与 VFET 的耦合。 b) 垂直堆叠的石墨烯/MoS
2/金属结构的光学图像(比例尺,10 μm),以及 c) 相应的 AFM 图像。 d,e)少层MoS
2和单层石墨烯的拉曼光谱。 f) 与 FET 耦合的滑模 TENG 的操作机制示意图。
Fig 2. VFET 和摩擦电子 VFET 的室温电气特性。 a) 垂直晶体管的
J-
VD 输出特性。背栅电压从-60 V 变化至 60 V,步长为 20 V。 b)
VD = 0.5 V 时器件的
J-
VG 传输特性。 c) 不同栅极电压下的整流比,插图显示二极管
VG = −60 V 时理想因子 ��� = 1.3 的行为。 d) 摩擦电子垂直晶体管的
J–
VG 输出特性。 TENG的位移从-8到8毫米变化,步长为2毫米。 e) 摩擦电子器件在
VD = 0.5 和 −0.5 V 时的
J-
D 传输特性。插图是摩擦电子垂直晶体管的等效电路图。 f) 不同 TENG 位移下的整流比,插图显示了
D = −8 mm 时理想因子 ��� = 1.25 的二极管行为。上述所有电流均按面积归一化。 g,h) 产生正(负)摩擦电势的滑模 TENG 示意图,以及正漏极偏压(
VD > 0,石墨烯接地)下相应的能带结构。
Fig 3. 石墨烯/MoS
2 界面处的肖特基势垒。 a) 在 200 至 350 K 的不同温度(D = 0 mm)下测量的摩擦电子垂直晶体管的
J-
VD 输出特性。 b) 示例性地显示了不同偏压
VD 下 ln (
ID/
T2) 与 1000/
T 的阿伦尼乌斯图 (
D = 0 mm),以提取偏压相关斜率
S。 c) 提取的斜率
S 与
VD 线性相关:
S(
VD) = −q(Φ
B−
VD/
n)/���
B。插图表示与施加的偏置电压为零对应的能带图。根据
S0 =
S(0) = −qΦ
B/���
B 提取的斜率值,零偏置电压的肖特基势垒 Φ
B 评估为 27.85 meV. 。 d、e) 在
D = −24 和 24 mm 的不同温度下测量的摩擦电子垂直晶体管的
J–
VD 输出特性。 f) 提取的势垒高度变化 Φ
B 作为 TENG 位移
D 的函数。
Fig 4. 由摩擦电子 VFET 驱动的绿色 LED 像素的器件特性。 a) 由
VD 分别为 2.1、2.5 和 2.8 V 的 VFET 驱动的绿色 LED 器件的
ID-
VG 图。 b) 由摩擦电子 VFET 驱动的绿色 LED 器件的
ID-
VD 图,其中 TENG 位移
D 从 -8 毫米变化到 8 毫米,步长为 2 毫米。插图为等效电路图. c) 装置的时域动态测试。插图是相应的
ID-D 图。 d)根据TENG位移
D和对应的光学图像对LED像素进行亮度控制。亮度作为
D 步进(从 -8 毫米到 8 毫米)的函数可以很好地区分.
相关研究工作由中国科学院北京纳米能源与系统研究所Zhong Lin Wang和Qijun Sun课题组于2024年在线发表在《Advanced Functional Materials》期刊上,Tribotronic Vertical Field-Effect Transistor Based on van der Waals Heterostructures,原文链接:
https://doi.org/10.1002/adfm.202313210
转自《石墨烯研究》公众号