全部新闻 公司新闻 产品新闻 资料下载 行业新闻
西安理工大学理学院Li-Yong Chen等--通过掺杂和应变的协同效应调节石墨烯/MoS2异质结构的能带排列、载流子迁移率和光吸收
       鉴于石墨烯零带隙的性质,在基于石墨烯的范德瓦尔斯( van der Waals,vdWs )异质结构( HS )中,I型能带排列占主导地位。这极大地影响了其在光电器件(如太阳能电池)领域的应用。在这项工作中,我们使用第一原理计算产生了 II 型能带排列,该排列可以通过 M 掺杂石墨烯/MoS (M@G/MoS, M = Pd, Ti) HS 中的小双轴应变来控制。此外,我们发现,在小范围的双轴应变下,应变的引入可以通过控制M@G/MoS2 HSs的能带排列来有效调节可见光吸收。此外,Pd@G/MoS和Ti@G/MoS HSs在-4%至4%的应变范围内,锯齿状方向的空穴迁移率始终超过1000 cm2·V-1·s-1。我们的研究结果有利于扩大石墨烯的 vdWs HS 在光电领域的应用。

 
图1. vdWs HSs的能带排列:(a)具有跨带隙的I型能带排列; (b)具有交错带隙的II型能带排列; (c)具有破碎带隙的III型能带排列; VBM和CBM分别表示价带极大值和导带极小值。

 
图2. 几何结构: (a)G/MoS2; (b) Pd@G/MoS2; (c) Ti@G/MoS2 HSs。顶部和底部的面板对应于侧视图和顶部视图。在(a)中,我们考虑了五个潜在的掺杂位点,即空穴位点(蓝色圆圈)、S-和mo-顶部位点(黑色圆圈)和桥接位点(红色圆圈)。

  
图3. 通过AIMD模拟Pd@G/MoS2和Ti@G/MoS2 HSs的温度和能量随时间的变化。
 左图:(a) 300 K; (c) 400K; 右图:(b) 300 K; (d) 400K。

 
图4 . 投影能带结构:(a) G/MoS2 HS,( b ) Pd掺杂单层石墨烯,( c ) Ti掺杂单层石墨烯,( d ) Pd@G/MoS2; ( e ) Ti@G/MoS2 HS。费米能量在能量尺度上被设置为零。

 
图5. 不同应变下平面双轴应变和声子色散下的示意图:(a)Pd@G/MoS2 ; (b) Ti@G/MoS2 HSs。正应变和吸附应变分别对应于拉伸应变和压缩应变。

 
图6. 不同应变下Pd@G/MoS2和Ti@G/MoS2异质结的投影能带结构。

 
图7. 在不同应变条件下对带结构进行带排列:(a、b)掺杂vdWs HSs; (c) Pd@GL和Ti@GL的带隙。

 
图8. (a)未应变HSs; (b)应变Ti@G/MoS2; (c) Pd@G/MoS2 HSs的光吸收。

 
图9. 不同应变水平下的Ti@G/MoS2 HS的投影能带结构(上面板)和跃迁偶极矩(下面板)。这里,Δ1-n(n = 1-5)表示费米能级以下的第n个价带与导电带之间的电子跃迁。根据计算出的TDM振幅,与可见光吸收对应的可能的层间电子跃迁用箭头突出显示。

 
图10. 300 K时,在应变条件下的载流子迁移率:(a,b) Pd@G/MoS2; (c,d) Ti@G/MoS2 HSs。这里,空穴和电子载流子分别对应于HS中掺杂的石墨烯层和MoS2层。

 
图11. 掺杂vd Ws HSs (左)的投影能带结构和Pd@GL和Ti@GL (右)在不同层间距离下的能带隙。
 
      相关研究成果由西安理工大学理学院Li-Yong Chen等人于2024年发表在Surfaces and Interfaces (https://doi.org/10.1016/j.surfin.2024.104024 )上。原文:Modulating the band alignment, carrier mobility and optical absorption of graphene/MoS2 heterostructure via synergistic effects of doping and strain 

转自《石墨烯研究》公众号
您的称呼 :
联系电话 :
您的邮箱 :
咨询内容 :
 
石墨烯系列产品 石墨烯薄膜 石墨类产品 分子筛类产品 碳纳米管和其他纳米管系列 活性炭及介孔碳系列产品 吉仓代理进口产品/国产产品 包装盒类 改性高分子类及其导电添加剂 纳米颗粒/微米颗粒 富勒烯类产品 化学试剂及生物试剂类 MXenes材料 量子点 纳米化合物及稀土氧化物 石墨烯设备及其材料 锂电池导电剂类 外接修饰分子偶联服务 委托开发服务 微电子产品 石墨烯及纳米材料检测业务 石墨烯检测设备 纳米线类/纳米棒类 实验室耗材类 钙钛矿材料(OLED) 导热硅胶片
公司新闻 产品新闻 行业新闻 资料下载