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无氟紫外光辅助刻蚀多层Mo2C
产品信息
名称：紫外光辅助刻蚀多层Mo2CTx
尺寸：1-5um
层数:10-20层
产品性能：高纯度优良的电化学性能
官能团：-OH-F-O-Cl（可定制）
纯度： 99%
储存条件：常温干燥
工艺：冷冻干燥
具体细节：新型紫外光辅助选择性刻蚀方法，可以将Mo2Ga2C前驱体中的Ga原子刻蚀，进而得到无氟的Mo2C MXene，并且避免了对毒性高腐蚀性酸的使用。得到的MXene展现出了独特的2D石墨烯状的结构以及较高的纯度。当其作为可充电电池的负极材料时，展现出了杰出的倍率性能与循环稳定性，储锂容量可以稳定在在150 mAh g-1左右，而储钠则可以稳定在50 mAh g-1左右。此外，柔性的Mo2CMXene基电池具有杰出的容量保留率（89%和74%）。因此， 这种MXene展示出了在离子存储应用中的巨大潜力，以及这种绿色的合成方法可以扩展其他MXene的合成思路，极具参考意义。
应用领域：储能、催化、分析化学、力学、吸附、生物、微电子、传感器等
尺寸工艺均可定制
价格：1900元/500毫克，3750元/克
jc@jcno.net
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