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吉仓低压CVD石墨烯生长设备

吉仓低压CVD石墨烯生长设备

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主要特点:
  此款设备以开启式真空管式炉为基础开发而来,操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处,使样品能得到一个快速的升温速度,同样也可将高温的管式炉直接推离样品处,使样品直接暴露在室温环境下,得到快速的降温速率。并可选配气氛微调装置,可准确的控制反应腔体内部的气体压力,带刻度的调节阀对于做低压CVD非常简单实用,工艺重复性好, 这款设备对于石墨烯生长工艺非常合适,也同样适用于要求快速升降温的CVD实验。

双温区滑轨式真空管式炉JC-1200C -SL
额定功率:5kw
最高温度:1200℃
工作温度:1100℃
最大升降温速率:10℃/min
炉管:高纯度石英管Φ50x1400mm(可根据要求设计)
加热区长度:200+200mm
恒温区长度:290mm
控温方式:模糊PID控制和自整定调节,智能化30段可编程控制,具有超温和断偶报警功能
供气系统
标准量程(N2):50sccm(CH4)、200sccm(H2)、500sccm(Ar);(可根据用户要求定制)
准确度:±1.5%
线性:±0.5~1.5%
重复精度:±0.2%
响应时间:气特性:1~4 Sec,电特性:10 Sec
工作压差范围:0.1~0.5 MPa
最大压力:3MPa
连接头类型:双卡套不锈钢接头Φ6。
 
真空机组
空气相对湿度≤85%,
工作电电压:220V±10%  50~60HZ
功率:1千瓦
抽气速率:4L\s
极限真空:4X10-2Pa
实验真空度:1.0X10-1Pa
容油量:1.1L
进气口口径:KF25
排气口口径:KF25
转速:1450rpm
噪音:50dB


 
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