主要特点：
此款设备以开启式真空管式炉为基础开发而来，操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。并可选配气氛微调装置，可准确的控制反应腔体内部的气体压力，带刻度的调节阀对于做低压CVD非常简单实用，工艺重复性好， 这款设备对于石墨烯生长工艺非常合适，也同样适用于要求快速升降温的CVD实验。
双温区滑轨式真空管式炉JC-1200C -SL
额定功率：5kw
最高温度：1200℃
工作温度：1100℃
最大升降温速率：10℃/min
炉管：高纯度石英管Φ50x1400mm（可根据要求设计）
加热区长度：200+200mm
恒温区长度：290mm
控温方式：模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能
供气系统
标准量程（N2)：50sccm（CH4）、200sccm（H2）、500sccm（Ar）；（可根据用户要求定制）
准确度：±1.5%
线性：±0.5～1.5%
重复精度：±0.2%
响应时间：气特性：1～4 Sec，电特性：10 Sec
工作压差范围：0.1～0.5 MPa
最大压力：3MPa
连接头类型：双卡套不锈钢接头Φ6。
真空机组
空气相对湿度≤85%，
工作电电压：220V±10% 50~60HZ
功率：1千瓦
抽气速率：4L\s
极限真空：4X10-2Pa
实验真空度：1.0X10-1Pa
容油量：1.1L
进气口口径：KF25
排气口口径：KF25
转速：1450rpm
噪音：50dB |
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